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若想將內(nèi)孔拋光至Ra0.2以下的鏡面狀態(tài),那么內(nèi)壁的原始粗糙度最好能達(dá)到Ra0.6以下。
除了原始粗糙度,工件材質(zhì)的硬度,也是影響拋光效果的重要因素。硬度越高的材質(zhì),拋光難度越大。這一點(diǎn)很好理解,我們不再贅述。
而內(nèi)孔拋光不同于外表面拋光很重要的一點(diǎn)在于,內(nèi)孔拋光會(huì)受到孔徑深度比的影響。所謂孔徑深度比,就是孔徑大小與孔深度之間的比例。
孔徑越小,孔深越長,拋光難度越大。
因?yàn)槿魏蔚膾伖夤ぞ咭埠?,研磨介質(zhì)也好,都有著自己的極限尺寸。并且,隨著內(nèi)孔深度的延長,研磨的力量也會(huì)不斷減弱,這是不可抗拒的物理定律,我們只能通過研發(fā),不斷去抵近孔徑深度比的極限,但不可能徹底改變這個(gè)定律。
最后,我們要說的是,關(guān)于內(nèi)孔鏡面拋光,是一門基于實(shí)踐的科學(xué),必須要通過實(shí)際的驗(yàn)證,才能確定最終的結(jié)果。但通過我們的努力,它又是一門可以不斷拓寬極限的工藝。
而斯曼克磨粒流,正在這條的道路上努力著,不斷拓寬內(nèi)孔拋光工藝的極限。
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